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前应材工程师被控盗窃技术中国创业
更新时间:2017-12-8 12:32:17  
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据彭博社报导,美国检察官12月6日发布声明说,DonaldOlgado(54岁)、LiangChen(52岁)、Wei-YungHsu(57岁)与RobertEwald(60岁)被控从应用材料公司的内部工程数据库下载数据,包括16,000多张图纸,并密谋引诱投资者投资一家中国初创公司,跟他们的前雇主竞争。
  
  其中身为产品业务部门工程总监的Olgado在应材服务将近20年,显然因为此事在2013年遭到公司开除,而另外3人则是早在2012年年底便已陆续请辞。
  
  这4名前应材工程师在2000年7月至2012年12月期间,涉嫌从公司的内部工程师数据库私自下载包括1.6万张设计图在内的大量信息,并将其储存在个人的Google云端硬盘;而这些数据多半都牵涉到在现今的半导体制程中堪称十分重要,名为「有机金属化学气相沉积法」(MOCVD)的一项技术。
  
  应用材料公司发言人声明说,应用材料公司积极?;に闹恫庥诘燎曰蚍欠ㄊ褂?。我们支持这宗刑事案件的法律行动,以确保任何非法获取我们商业机密的人都被绳之以法。
  
  起诉书说,被盗的技术涉及在所谓金属有机化学气相沉积(MOCVD)芯片上形成结晶层的复杂过程。该技术是应用材料公司通过多年的研究和测试开发出来,耗费了数百万美元。应用材料公司的Paragon项目开发了一个所谓NLighten的消费者产品,四名嫌犯被控试图复制这个产品。
  
  起诉书说,大约在2000年7月到2012年12月之间,四名嫌犯密谋盗窃MOCVD技术,并用它来创建一个名为Envision的竞争公司。他们打算在美中两地开设公司。这四人使用个人电子邮件账号描述计划,他们指示低级别雇员帮助他们下载保密材料,然后将之储存在Google驱动器账号上。这四人还从公司在加州的办公室实体获取了MOCVD技术。
  
 
来源:彭博社        
 
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